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南京莱弗特为您介绍半导体清洗用超纯水设备工作原理

来源:南京水处理公司  更新:2019-11-14 13:44 点击:
产品知识

南京莱弗特环保科技有限公司通过多年在中国水务领域的发展与潜心研究,并与高校和科研机构长期合作,实现并成为了集科研、设计、生产、销售为一体的多元化水处理实体高新技术企业,主营反渗 透纯水设备,EDI设备,EDI水处理设备,超纯水设备,反渗 透水处理设备,设备专线:025-58703875。

一、半导体清洗用超纯水设备工作原理

EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如下图所示。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开,形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水. EDI设备一般以反渗 透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。

二、半导体清洗用超纯水设备制备工艺

1、预处理系统→反渗 透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀 菌器→抛光混床→精 密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

2、预处理→反渗 透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀 菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精 密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(新工艺)

3、预处理→一 级反渗 透→加药机(PH调节)→中间水箱→第 二级反渗 透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀 菌器→0.2或0.5μm精 密过滤器→用水点。(≥17MΩ.CM)(新工艺)

4、预处理→反渗 透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀 菌器→0.2或0.5μm精 密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(新工艺)

5、预处理系统→反渗 透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀 菌器→精 密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

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